3.21日-理想之光遥遥闪耀,半导体何日功成?!【日更】

依旧维持原判不变,牢牢看多,此处为确定性的长周期大行情机会,低位标的拿住。而美股可进行小幅多仓操作。今日本文咱们主要聊聊半导体相关介绍,且看分析:

3月21日复盘

强势思维,就是强者恒强,立足于主线,主线的每一次调整,都是机会。

科普半导体设备零部件产业链:

按照各类零部件在设备上的不同功能,可其大致分为机械加工件类、物料传送类、电气类、真空类、气液输送类、光学类、热管理类等。

以2020年中国晶圆厂商采购的8-12时晶圆设备零部件产品结构为依据。在各类零部件中应用较多的有石英制品(11%)、射频发生器(10%)、泵(10%)、阀门(9%)、静电吸盘(9%)、喷淋头(8%)等。

目前国产率超过10%的仅有石英制品、喷淋头、边缘环组件等几类,其他零部件国产率均较低,尤其是阀门、测量计、密封圈等几乎完全依赖进口。

石英玻璃竞争格局:

目前高端石英玻璃市场,尤其是半导体石英玻璃市场,主要还是海外巨头企业如贺利氏、迈图、东曹、昆希堂握,贺利氏、迈图、东曹三家全球市场占比超过60%。目前国产厂商供应占比在10%左右。

国内仅有菲利华和石英股份(石英材料)通过国际半导体设备商的认证。射频电源竞争格局:

全球射频电源市场格局集中度高,呈现寡头竞争的发展趋势,两大供应商 MKSInstrument和AdvancedEnergy均来自美国。英杰电气已成为中微半导体 MOCVD 设备电源稳定供应商,实现进口替代,且相比进口产品仍然具有较为明显的价格优势。

真空汞:真空泵是用来产生、改善和维持真空环境的装置,是真空系统的核心。半导体制造中,尤其是核心的干法工艺,广泛涉及到真空反应环境,而真空系统直接关系到芯片的性能和良率。

真空汞竞争格局:

光伏真空泵已实现国产化:目前汉钟精机在光伏真空泵市占率70%+,其中拉晶环节市占率较高,电池片环节仍有一定提升空间。

阀门:半导体阀门是由带有辅助设备的半导体器件组成的阀,主要是在流体系统中,用来控制流体的方向、压力、流量的装臵。国内生产半导体阀门的企业主要包括新莱应材和晶盛机电。新莱庙材在半导体阀门已经能实现对海外零部件的替代,下游客户包括国内外知名的半导体设备厂商,并与制造公司长江存储、合肥长鑫等在高端真空阀门等产品方面也有深入合作。静电吸盘:

静电吸盘是一种适用干真空环境或等离子体环境的超洁净晶圆片承载体,它利用静电吸附原理将晶圆片加以固定并进行控温

华卓精科(20年产量4台)自主研发的静电卡盘产品严格按照半导体行业相关标准设计和加工,在产品结构设计、尺寸形位精度及使用可靠性等方面都具有技术优势,前期所开发的12时PVD 瓶化铝静电卡盘,在一定程度上破除了国外厂商在该产品领域内的长期垄断局面。

流量计:质量流量计(MFM)/质量流量控制器(MFC)属于一种工业自动化仪表,可以应用到对各种气体(含蒸汽)进行测量或控制,MEM可以精密测量气体的质量流量,MFC除测量外还可以精密控制气体的质量流量。

北方华创研制生产的是量热式质量流量计,具有不因温度和压力的波动而失准、重复性好、自动测量控制、工作压力范围宽等特点,可以在真空或高压气路中工作。

金属机械类零部件:富创精密:国内半导体设备精密零部件的领军企业,包括工艺零部件,结构零部件模组产品和气体管路,是国内少有的能够提供满足国际主流客户标准的精密零部件产品的供应商,3%的零部件满足7nm制程。

富创精密第一大客户“客户A”总部注册在美国,公司对客户A直接和间接销售额占各期营业收入的比例超过50%。

刻蚀用硅部件:刻蚀用单晶硅部件是晶圆制造刻蚀环节所需的核心耗材。刻蚀用的硅部件主要包括上电极、下电极以及外套环等类别。

硅电极是晶圆制造刻蚀工艺的核心耗材。

前神工股份是全球领先的单晶硅材料生产企业,硅部件产品正在验证中,目前已有部分订单。机械手:

机械手即工业机器人,通常指应用在工业生产过程中,模仿人类手臂设计且有串联多关节结构的机器人,机械手能模仿人手譬的某些动作功能,按固定程序抓取、搬运物件或操作工具的自动操作装置。

全球半导体机械手市场主要由美国和日本厂商主导,日本是最大的半导体机械手生产地区,占有大约60%的市场份额,美国占有20%的市场份额。中国占有市场份额不大,目前本土企业由新松机器人(最近两年净利润现金流为负,毛利率由17年之前的30%多下降到现在不到10%,存货40亿,占总资产比例35%)主导。光刻机零部件:

以ASML光刻机上游供应商为例,主要为美国、德国、日本、中国台湾厂商,美国厂商数量最多,其中最核心的组件是光源和镜头,镜头供应商为德国蔡司,光源供应商为美国Cymer(被ASML收购)和日本

Gigaphoton,其中EUV光刻机光源由Cymer独家供应。

华卓精科的双工件台目前主要用于65纳米至28纳米浸没式光刻机的研发而且1.7纳米的华卓精科工件台结合28纳米沉浸式光刻机,在理论上可以经过多重曝光实现7纳米芯片的制造。

长春国科精密已经能生产90nmDUV光刻机镜头,可用于合肥芯硕200nm的光刻机,长春光机所研制的32nm EUV光刻曝光装置已经验收。

奥普光电的K9光学玻璃、人造萤石(CaF2)等高端光学材料供应给肖特蔡司,而肖特蔡司是荷兰ASML光刻机透镜系统光学元件供应商。

今晚复盘到此,半导体要成功不简单,投资也是如此,没有人能随随便便成功。

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# 晒晒我的复盘笔记

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