证券之星消息,根据企查查数据显示天合光能(688599)新获得一项实用新型专利授权,专利名为“用于镀膜设备的防靶材溅射装置和镀膜设备”,专利申请号为CN202522145432.8,授权日为2026年11月6日。
专利摘要:本申请涉及一种用于镀膜设备的防靶材溅射装置和镀膜设备。本申请提出的用于镀膜设备的防靶材溅射装置包括:第一遮挡部件,套设在所述靶材的外侧;以及第二遮挡部件,套设在所述第一遮挡部件的外侧且位于所述线圈的上方,所述第二遮挡部件沿所述靶柱的高度方向具有第一投影,所述线圈沿所述靶柱的高度方向具有第二投影,所述第二投影位于所述第一投影的轮廓内。通过设置第一遮挡部件和第二遮挡部件,防止溅射粒子和导电粉末沉积到线圈、中心靶柱表面,保证了关键部件的绝缘性能、从而使镀膜设备正常工作,保证了镀膜质量。
今年以来天合光能新获得专利授权384个,较去年同期减少了24.41%。结合公司2026年中报财务数据,今年上半年公司在研发方面投入了10.21亿元,同比增13.44%。
通过天眼查大数据分析,天合光能股份有限公司共对外投资了21家企业,参与招投标项目7282次;财产线索方面有商标信息1087条,专利信息4906条,著作权信息131条;此外企业还拥有行政许可47个。
数据来源:企查查
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