金吾财讯 | 据外媒报道,德国半导体巨头英飞凌(IFNNY)宣布,将投资11亿欧元(约合12.3亿美元)扩建其位于奥地利菲拉赫的芯片生产基地,用于打造全球首座基于300毫米(12英寸)晶圆的氮化镓(GaN)功率半导体量产工厂。据测算,与主流的200毫米晶圆相比,300毫米晶圆单盘可容纳的芯片数量增至2.3倍,产能大幅提升。英飞凌方面表示,该项投资将重点支持数据中心电源需求,并推动氮化镓技术在人工智能、能源基础设施、电动汽车及机器人等关键领域的规模化应用。
金吾财讯 | 据外媒报道,德国半导体巨头英飞凌(IFNNY)宣布,将投资11亿欧元(约合12.3亿美元)扩建其位于奥地利菲拉赫的芯片生产基地,用于打造全球首座基于300毫米(12英寸)晶圆的氮化镓(GaN)功率半导体量产工厂。据测算,与主流的200毫米晶圆相比,300毫米晶圆单盘可容纳的芯片数量增至2.3倍,产能大幅提升。英飞凌方面表示,该项投资将重点支持数据中心电源需求,并推动氮化镓技术在人工智能、能源基础设施、电动汽车及机器人等关键领域的规模化应用。
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