据快科技，正在国家会展中心（上海）举行的第二十六届中国国际工业博览会上，朗道燧岩首次公开展示了一台EUV光源系统样机。这是目前公开展示中进度最靠前的国产EUV光源样机，被称作高端光刻机的“心脏”。这标志着国产EUV光源领域取得重大突破，从实验室走向产业化的关键一步已经迈出。 极紫外光源是7nm及以下先进制程芯片制造的三大核心零部件之一，长期受海外技术垄断与禁运限制，是制约中国高端芯片自主可控的关键环节。现场工作人员介绍，本次展出的光源系统国产化率达90%，绝大多数核心零部件为自主研发，技术路线与国际领先厂商一致，可用于芯片曝光测试。不过，该光源系统距离量产仍需3至5年时间。 朗道燧岩官网显示，其低功率EUV光源系统FlintNano LPP-OXXO已处于产品化阶段，驱动激光功率为1000W，激光频率1至20kHz，转换效率大于2%，EUV能量大于15W，持续工作时间超过100小时，等离子体尺寸60微米。高功率极紫外光源系统FlintMicro-LPP系列则已完成原理论证。