国林科技:臭氧在半导体行业的应用范围主要包括薄膜沉积、湿法清洗、表面处理、氧化物生成等工艺制程

证券之星09-18

证券之星消息,国林科技(300786)09月18日在投资者关系平台上答复投资者关心的问题。

投资者提问:公司既然有面板级臭氧设备,请问究竟能否用于TGV玻璃基板封装工艺之中?请明确。

国林科技回复:尊敬的投资者,您好。臭氧在半导体行业的应用范围主要包括薄膜沉积、湿法清洗、表面处理、氧化物生成等工艺制程,子公司国林半导体现有产品可以满足上述工艺制程的应用需求。详细产品技术信息请查阅公司官方网站或公司定期报告进行了解。感谢您的关注。

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责任编辑:刘浩然

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