证券之星消息,国林科技(300786)09月11日在投资者关系平台上答复投资者关心的问题。
投资者提问:请问臭氧在3D堆叠结构这样的高深宽比场景下的应用窗口及优势在哪?
国林科技回复:尊敬的投资者,您好。公司的半导体专用臭氧系统设备能够产生高浓度、超纯净的臭氧,臭氧在电子工业领域被广泛用于形成CVD及ALD薄膜、氧化物生长等工艺环节。在3D NAND存储芯片结构中,臭氧因其高氧化性、清洁效率和环保特性,能够满足半导体制造对精度、缺陷控制和材料兼容性的严苛要求,从而实现纳米级均匀氧化层的形成。感谢您的关注。
本文数据来源于深圳证券交易所互动易,仅供参考不构成投资建议。
责任编辑:陈思雨
精彩评论