上海新阳获得发明专利授权：“一种ArF浸没式光刻胶用聚丙烯酸酯聚合物、其制备方法及应用”

证券之星消息，根据天眼查APP数据显示上海新阳（300236）新获得一项发明专利授权，专利名为“一种ArF浸没式光刻胶用聚丙烯酸酯聚合物、其制备方法及应用”，专利申请号为CN202410557304.1，授权日为2026年8月7日。

专利摘要：本发明公开了一种ArF浸没式光刻胶用聚丙烯酸酯聚合物、其制备方法及应用。本发明的聚合物由以下制备方法得到：在引发剂存在下，将式(A)所示的单体、式(B)所示的单体、式(C)所示的单体在有机溶剂中进行聚合反应，得到所述聚丙烯酸酯聚合物，其中，以重量份数计，式(A)所示的单体的重量份数为2‑10份，式(B)所示的单体的重量份数为1‑6份，式(C)所示的单体的重量份数为1‑3份。本发明的聚合物运用在ArF浸没式光刻中，能够减少光刻胶性能下降和缺陷增多的问题。

今年以来上海新阳新获得专利授权2个，较去年同期减少了88.24%。结合公司2025年年报财务数据，2025年公司在研发方面投入了2.69亿元，同比增22.37%。

通过天眼查大数据分析，上海新阳半导体材料股份有限公司共对外投资了25家企业，参与招投标项目73次；财产线索方面有商标信息10条，专利信息438条，著作权信息2条；此外企业还拥有行政许可115个。

数据来源：天眼查APP

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