埃科光电获得发明专利授权：“一种基于线光谱共聚焦的数据处理方法、系统及介质”

证券之星消息，根据天眼查APP数据显示埃科光电（688610）新获得一项发明专利授权，专利名为“一种基于线光谱共聚焦的数据处理方法、系统及介质”，专利申请号为CN202610507283.1，授权日为2026年7月31日。

专利摘要：本发明公开了一种基于线光谱共聚焦的数据处理方法、系统及介质，所述方法，包括：对光谱图中各波长所对应的光强进行分析，获得两个初始波长；分别从峰值仅为第一初始波长和第二初始波长的光谱图，提取对应的预测峰值和预测半峰宽；分析光强重叠后各波长所对应的光强数据，并累计与当前位置所对应的光谱图中各波长所对应的光强数据间的偏差量，根据偏差量对两个初始波长进行调节，以确定待测物的厚度。本发明减少重叠信号的干扰，能够获得会聚至待测物上下表面的波长，提高了线光谱共聚焦传感器对超薄的透明待测物厚度的检测精度。

今年以来埃科光电新获得专利授权36个，较去年同期增加了33.33%。结合公司2025年年报财务数据，2025年公司在研发方面投入了5512.24万元，同比增23.48%。

通过天眼查大数据分析，合肥埃科光电科技股份有限公司共对外投资了2家企业，参与招投标项目25次；财产线索方面有商标信息53条，专利信息444条，著作权信息78条；此外企业还拥有行政许可19个。

数据来源：天眼查APP

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