横店东磁获得发明专利授权：“一种改善后氧化处理中晶硅片白点不良的方法”

证券之星消息，根据天眼查APP数据显示横店东磁（002056）新获得一项发明专利授权，专利名为“一种改善后氧化处理中晶硅片白点不良的方法”，专利申请号为CN202211340073.6，授权日为2026年7月10日。

专利摘要：本发明提供一种改善后氧化处理中晶硅片白点不良的方法，所述方法包括如下步骤：(1)进舟；(2)第一臭氧净化；(3)升温；(4)第一抽真空；(5)第二臭氧净化；(6)后氧化；(7)第二抽真空；(8)回压；(9)降温；(10)出舟。本发明所述方法利用具有强氧化性的臭氧将炉管内的空气进行净化处理，改善后氧化处理中的环境氛围的洁净度，降低炉管内的污染物比例，进而有效降低了晶硅片的白点不良比例；所述方法操作简单，对设备的要求低，处理成本低，具有大规模推广应用前景。

今年以来横店东磁新获得专利授权78个，较去年同期增加了1.3%。结合公司2025年年报财务数据，2025年公司在研发方面投入了5.69亿元，同比减21.22%。

通过天眼查大数据分析，横店集团东磁股份有限公司共对外投资了41家企业，参与招投标项目9760次；财产线索方面有商标信息224条，专利信息2830条，著作权信息27条；此外企业还拥有行政许可105个。

数据来源：天眼查APP

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