聚和材料：计划进入DUV-ArF及DUV-KrF光刻级空白掩膜版业务领域

证券之星06-26

证券之星消息，聚和材料(688503)06月26日在投资者关系平台上答复投资者关心的问题。

投资者提问：目前国内半导体级空白掩膜版国产化率几乎为 0，完全依赖日本 HOYA、信越化学进口，这是否属于我国半导体产业链最严重的卡脖子环节之一？

聚和材料回复：尊敬的投资者,您好。公司通过收购SKE的空白掩膜版业务，计划进入DUV-ArF及DUV-KrF光刻级空白掩膜版业务领域。空白掩膜版是半导体制造的核心材料，能够实现量产的公司屈指可数。国内晶圆产能扩张、先进制程需求增加以及国家对关键半导体材料的战略扶持，空白掩膜版国产替代趋势确定。如后续相关业务达到相关披露标准，公司会及时履行信息披露义务，敬请您关注公司后续披露的公告。感谢您的关注！

本文数据来源于上海证券交易所e互动，仅供参考不构成投资建议。

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责任编辑：刘浩然

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{"i18n":{"language":"zh_CN"},"isChannel":false,"data":{"share":"https://www.laohu8.com/m/news/2646353275?lang=zh_CN&edition=full","thumbnail":"","is_english":false,"pubTime":"2026-06-26 17:33","share_image_url":"https://static.laohu8.com/e9f99090a1c2ed51c021029395664489","id":"2646353275","market":"fut","top_or_hot":-1,"title":"聚和材料：计划进入DUV-ArF及DUV-KrF光刻级空白掩膜版业务领域","media":"证券之星","content":"<html><body><p>证券之星消息，<a href=\"https://laohu8.com/S/688503\">聚和材料</a>(688503)06月26日在投资者关系平台上答复投资者关心的问题。</p><p>投资者提问：目前国内半导体级空白掩膜版国产化率几乎为 0，完全依赖日本 HOYA、<a href=\"https://laohu8.com/S/06038\">信越</a>化学进口，这是否属于我国半导体产业链最严重的卡脖子环节之一？</p><p>聚和材料回复：尊敬的投资者,您好。公司通过收购SKE的空白掩膜版业务，计划进入DUV-ArF及DUV-KrF光刻级空白掩膜版业务领域。空白掩膜版是半导体制造的核心材料，能够实现量产的公司屈指可数。国内晶圆产能扩张、先进制程需求增加以及国家对关键半导体材料的战略扶持，空白掩膜版国产替代趋势确定。如后续相关业务达到相关披露标准，公司会及时履行信息披露义务，敬请您关注公司后续披露的公告。感谢您的关注！</p><p>本文数据来源于上海证券交易所e互动，仅供参考不构成投资建议。</p><h2>相关 ETF</h2><p><img src=\"https://static.stockstar.com/etf/15978120260626.png\"/><img src=\"https://static.stockstar.com/etf/51031020260626.png\"/><img src=\"https://static.stockstar.com/etf/58827020260626.png\"/><img src=\"https://static.stockstar.com/etf/15936120260626.png\"/></p><p>责任编辑：刘浩然</p></body></html>","source":"stockstar","html":"<!DOCTYPE html>\n<html>\n<head>\n<meta http-equiv=\"Content-Type\" content=\"text/html; charset=utf-8\" />\n<meta name=\"viewport\" content=\"width=device-width,initial-scale=1.0,minimum-scale=1.0,maximum-scale=1.0,user-scalable=no\"/>\n<meta name=\"format-detection\" content=\"telephone=no,email=no,address=no\" />\n<title>聚和材料：计划进入DUV-ArF及DUV-KrF光刻级空白掩膜版业务领域</title>\n<style type=\"text/css\">\na,abbr,acronym,address,applet,article,aside,audio,b,big,blockquote,body,canvas,caption,center,cite,code,dd,del,details,dfn,div,dl,dt,\nem,embed,fieldset,figcaption,figure,footer,form,h1,h2,h3,h4,h5,h6,header,hgroup,html,i,iframe,img,ins,kbd,label,legend,li,mark,menu,nav,\nobject,ol,output,p,pre,q,ruby,s,samp,section,small,span,strike,strong,sub,summary,sup,table,tbody,td,tfoot,th,thead,time,tr,tt,u,ul,var,video{ font:inherit;margin:0;padding:0;vertical-align:baseline;border:0 }\nbody{ font-size:16px; line-height:1.5; color:#999; background:transparent; }\n.wrapper{ overflow:hidden;word-break:break-all;padding:10px; }\nh1,h2{ font-weight:normal; line-height:1.35; margin-bottom:.6em; }\nh3,h4,h5,h6{ line-height:1.35; margin-bottom:1em; }\nh1{ font-size:24px; }\nh2{ font-size:20px; }\nh3{ font-size:18px; }\nh4{ font-size:16px; }\nh5{ font-size:14px; }\nh6{ font-size:12px; }\np,ul,ol,blockquote,dl,table{ margin:1.2em 0; }\nul,ol{ margin-left:2em; }\nul{ list-style:disc; }\nol{ list-style:decimal; }\nli,li p{ margin:10px 0;}\nimg{ max-width:100%;display:block;margin:0 auto 1em; }\nblockquote{ color:#B5B2B1; border-left:3px solid #aaa; padding:1em; }\nstrong,b{font-weight:bold;}\nem,i{font-style:italic;}\ntable{ width:100%;border-collapse:collapse;border-spacing:1px;margin:1em 0;font-size:.9em; }\nth,td{ padding:5px;text-align:left;border:1px solid #aaa; }\nth{ font-weight:bold;background:#5d5d5d; }\n.symbol-link{font-weight:bold;}\n/* header{ border-bottom:1px solid #494756; } */\n.title{ margin:0 0 8px;line-height:1.3;color:#ddd; }\n.meta {color:#5e5c6d;font-size:13px;margin:0 0 .5em; }\na{text-decoration:none; color:#2a4b87;}\n.meta .head { display: inline-block; overflow: hidden}\n.head .h-thumb { width: 30px; height: 30px; margin: 0; padding: 0; border-radius: 50%; float: left;}\n.head .h-content { margin: 0; padding: 0 0 0 9px; float: left;}\n.head .h-name {font-size: 13px; color: #eee; margin: 0;}\n.head .h-time {font-size: 11px; color: #7E829C; margin: 0;line-height: 11px;}\n.small {font-size: 12.5px; display: inline-block; transform: scale(0.9); -webkit-transform: scale(0.9); transform-origin: left; -webkit-transform-origin: left;}\n.smaller {font-size: 12.5px; display: inline-block; transform: scale(0.8); -webkit-transform: scale(0.8); transform-origin: left; -webkit-transform-origin: left;}\n.bt-text {font-size: 12px;margin: 1.5em 0 0 0}\n.bt-text p {margin: 0}\n</style>\n</head>\n<body>\n<div class=\"wrapper\">\n<header>\n<h2 class=\"title\">\n聚和材料：计划进入DUV-ArF及DUV-KrF光刻级空白掩膜版业务领域\n</h2>\n\n<h4 class=\"meta\">\n\n\n2026-06-26 17:33 北京时间&nbsp;&nbsp;&nbsp;<a href=https://stock.stockstar.com/RB2026062600032138.shtml><strong>证券之星</strong></a>\n\n\n</h4>\n\n</header>\n<article>\n<div>\n<p>证券之星消息，聚和材料(688503)06月26日在投资者关系平台上答复投资者关心的问题。投资者提问：目前国内半导体级空白掩膜版国产化率几乎为 0，完全依赖日本 HOYA、信越化学进口，这是否属于我国半导体产业链最严重的卡脖子环节之一？聚和材料回复：尊敬的投资者,您好。公司通过收购SKE的空白掩膜版业务，计划进入DUV-ArF及DUV-KrF光刻级空白掩膜版业务领域。空白掩膜版是半导体制造的核心...</p>\n\n<a href=\"https://stock.stockstar.com/RB2026062600032138.shtml\">网页链接</a>\n\n</div>\n\n\n</article>\n</div>\n</body>\n</html>\n","isBrief":false,"type":0,"news_type":1,"symbol":"BK0214","symbol_name":"IT设备","start_time":0,"source_url":"https://stock.stockstar.com/RB2026062600032138.shtml","article_id":"2646353275","we_media_id":"1082532455","thumbnails":[],"rights":null,"url":"https://stock-news.laohu8.com/highlight/detail?id=2646353275","pubTimestamp":1782466407,"columns":[],"sourceInfo":{"source_id":"stockstar","name":"证券之星"},"weMediaInfo":{"media_name":"证券之星","introduction":"证券之星始创于1996年，是国内领先的金融信息及综合服务平台。关注证券之星，即时获取有价值的财经资讯。","home_visible":1,"id":"1082532455","head_image":"https://community-static.tradeup.com/news/2e305640fc27210243042d09d3a7fa3f"},"summary":"证券之星消息，聚和材料06月26日在投资者关系平台上答复投资者关心的问题。公司通过收购SKE的空白掩膜版业务，计划进入DUV-ArF及DUV-KrF光刻级空白掩膜版业务领域。空白掩膜版是半导体制造的核心材料，能够实现量产的公司屈指可数。国内晶圆产能扩张、先进制程需求增加以及国家对关键半导体材料的战略扶持，空白掩膜版国产替代趋势确定。","collect":0,"end_time":0,"defaultTopTitle":"","property":[],"viewcount":null,"language":"zh","relate_stocks":{"688503":"聚和材料","BK0214":"IT设备","BK0224":"电气机械"},"translate_title":"Poly Materials: Plans to enter DUV-ArF and DUV-KrF lithography grade blank mask business","themeId":null,"isJumpTheme":false,"ttsUrl":null,"symbols_score_info":{"688503":1.5},"content_text":"证券之星消息，聚和材料(688503)06月26日在投资者关系平台上答复投资者关心的问题。投资者提问：目前国内半导体级空白掩膜版国产化率几乎为 0，完全依赖日本 HOYA、信越化学进口，这是否属于我国半导体产业链最严重的卡脖子环节之一？聚和材料回复：尊敬的投资者,您好。公司通过收购SKE的空白掩膜版业务，计划进入DUV-ArF及DUV-KrF光刻级空白掩膜版业务领域。空白掩膜版是半导体制造的核心材料，能够实现量产的公司屈指可数。国内晶圆产能扩张、先进制程需求增加以及国家对关键半导体材料的战略扶持，空白掩膜版国产替代趋势确定。如后续相关业务达到相关披露标准，公司会及时履行信息披露义务，敬请您关注公司后续披露的公告。感谢您的关注！本文数据来源于上海证券交易所e互动，仅供参考不构成投资建议。相关 ETF责任编辑：刘浩然","kind":"highlight","is_publish_news":true,"is_publish_highlight":false,"is_publish_live":false,"is_publish_wemedia":true,"editions":null,"column":"","sentiment":"0","news_tag":"","news_rank":0,"isVideo":false,"video":null,"symbols":[],"gpt_button":0,"need_auth":false,"need_login_tip":false,"code":"91000000","status":"200"},"commentList":[],"isCommentEnd":true,"newsSizeData":{"likeSize":0,"commentSize":0,"repostSize":0,"favoriteSize":0,"likeStatus":false,"favoriteStatus":false},"APP":{"userAgent":"Mozilla/5.0 AppleWebKit/537.36 (KHTML, like Gecko; compatible; ClaudeBot/1.0; +claudebot@anthropic.com)","isDev":false,"isTTM":false,"isLaohu8Offline":false,"tenantId":"TBCN","deviceId":"web-server-community-laohu8-v3","version":"4.44.1","shortVersion":"4.44.1","platform":"web","vendor":"web","appName":"laohu8","isIOS":false,"isAndroid":false,"isTiger":false,"isTHS":false,"isWeiXin":false,"isWeiXinMini":false,"isWeiBo":false,"isQQ":false,"isBaiduSwan":false,"isBaiduBox":false,"isDingTalk":false,"isToutiao":false,"isOnePlus":false,"isHuaWei":false,"isXiaomi":false,"isXiaomiWebView":false,"isOppo":false,"isVivo":false,"isSamsung":false,"isMobile":false},"href":"/m/news/2646353275","isCrawlerRequest":true}