摩尔定律走到尽头!俞宗强:EUV触及瓶颈,下一步给芯片制造装“大脑”

凤凰网港股06-15

出品 | 凤凰网财经《发现新势力》

主持人丨张涛 制片人丨王迪

近日,东方晶源董事长兼CTO俞宗强在与凤凰网财经《发现新势力》对话时指出,摩尔定律正逼近物理与经济双重极限,EUV光刻机触及瓶颈,而未来的出路在于系统级创新,给芯片制造装上“眼睛”和“大脑”,用计算光刻和电子束检测打通设计、制造、封装的全链条。

(以下内容节选自《发现新势力》对话俞宗强,对话实录有删减)

凤凰网财经《发现新势力》:我看之前有人从工艺流程上,大概分成三类:设计、制造、封装,是这样吗?

俞宗强:是这样。其实它们是连通的,是整个的。

首先,设计上是“what you want”,你想干什么?这个chip是干什么用的,首先要定义好。另外,你怎么实现?需要多大面积,什么情况下的功耗。

其实摩尔定律所谓的物理第一性原理,就是一个叫瑞利公式。瑞利公式就是光透过一个细缝,它如何成像在硅表面、它的线宽。我们叫λ over NA(光刻领域的瑞利判据公式)。

前摩尔时代,其实就是根据瑞利公式λ over NA,我们如何把波长做得更短,第二是把数值孔径做得更大。目前,最大的瓶颈就是技术上的可行性。现在的EUV(极紫外光)光刻机做得非常复杂,这是人类有史以来在制造端可能最难的、最不可思议的。

前摩尔时代靠λ over NA(光刻领域的瑞利判据公式)作为驱动力,它很贵、很难。网上都有各种各样价格,但是,都不一定准确。现在物理上和经济上这两个结合起来,基本已经走到尽头了,不会再往前走。

那后摩尔时代怎么办?过去设计、制造、封装分工非常明确,没有任何扯皮的事。

但今天,由于线宽不能刻得太小了,太小成本太高,大家就开始考虑是不是要系统性地解决问题。如果我原来靠λ over NA(光刻领域的瑞利判据公式)这种趋势把光刻线条刻小,成本太高了。那我是不是能够系统化地:在设计的时候就更准确地考虑可制造性;在制造的时候,考虑不一定通过光刻来解决这个问题;是不是通过封装来解决集成的问题?

凤凰网财经《发现新势力》:所以更系统了。

俞宗强:对,从系统上考虑这个问题。我认为在这个行业里面,在我创业的时候,我认为这是产业界最后一个创新。因为在光刻本身已经没有创新了。大家都知道短波长可以,但是很难。ASML在做EUV过程中经历的苦难,我也算是直接间接参与过,那是非常非常艰难的。很多时候并不是人类认为一直做就能做出来的。ASML是非常伟大的公司,能走下来确实了不起。

未来的出路就在于如何把设计、制造、封装、集成,甚至Application level的集成,能够做到一体。这里面有大量的空间可以创新,这也是我创业的初心。

我们的目的就是为芯片制造提供一个crystal ball,一个水晶球,能够预知未来,提早发现问题,提早解决问题。我希望给芯片制造在过程中安装一个眼睛,就是我们的电子束。电子束在芯片制造里面就是最终的眼睛,看我线宽到底刻得对不对、有没有问题。有了眼睛还不够,下面再安装一个大脑,就是我们核心的计算光刻技术(Computational Lithography)。在用光刻以前,我就把它预测出来,天衣无缝、非常准确地预测出来。

有了眼睛,有了大脑,就可以把设计、制造、封装三个环节无缝地连接起来,为产业界提供一个crystal ball。这就是为什么我所有的公司,包括在美国创建的三家公司,都和crystal有关。我希望让每一个分工之间的冗余度转化到我的性能上。你性能高了,在同样面积下晶体管多了,就可以卖高价,赚更多的钱。

*本文来源为凤凰网财经《发现新力量》对话俞宗强,完整视频内容在凤凰新闻客户端上线。

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