智通财经APP讯,普达特科技(00650)公布,公司一台12英寸LPCVD炉管设备成功通过客户验收,该设备应用于LP-SiN薄膜沉积工艺。此外,另一台12英寸ALD炉管设备在客户端处于验证过程中,该设备应用于ALD-SiN╱ALD-SiCN薄膜沉积工艺,兼容Thermal╱Plasma模式。公司先进半导体炉管设备产品线,拥有Galilee-LP与Galilee-ALD两大设备平台,致力于服务12...
网页链接智通财经APP讯,普达特科技(00650)公布,公司一台12英寸LPCVD炉管设备成功通过客户验收,该设备应用于LP-SiN薄膜沉积工艺。此外,另一台12英寸ALD炉管设备在客户端处于验证过程中,该设备应用于ALD-SiN╱ALD-SiCN薄膜沉积工艺,兼容Thermal╱Plasma模式。公司先进半导体炉管设备产品线,拥有Galilee-LP与Galilee-ALD两大设备平台,致力于服务12...
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