IT之家 12 月 24 日消息,科技媒体 Wccftech 昨日(12 月 23 日)发布博文,报道称英特尔针对高性能计算(HPC)和 AI 数据中心场景,展示其在大规模芯片封装领域的最新成果,能够构建超过传统光罩尺寸 12 倍的超大芯片。光罩极限(Reticle Limit)芯片制造中光刻机单次曝光的最大面积,突破此极限(如 >12x)意味着通过拼接技术制造出比传统单颗芯片大得多的巨型芯片。...
网页链接IT之家 12 月 24 日消息,科技媒体 Wccftech 昨日(12 月 23 日)发布博文,报道称英特尔针对高性能计算(HPC)和 AI 数据中心场景,展示其在大规模芯片封装领域的最新成果,能够构建超过传统光罩尺寸 12 倍的超大芯片。光罩极限(Reticle Limit)芯片制造中光刻机单次曝光的最大面积,突破此极限(如 >12x)意味着通过拼接技术制造出比传统单颗芯片大得多的巨型芯片。...
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