国林科技：国林半导体臭氧水发生器的浓度可以实现100ppm以上，最高到150ppm，因此可以满足使用

互动易2025-08-11

有投资者向国林科技提问，公司您好，贵司的臭氧清洗设备能清洗光刻胶。但是不同制程的光刻胶所需要的清洗方式与清洗技术是不一样的。公司之前回复能满足清洗，但是对于公司的技术能力并没有一个很明确的说明。请问公司，目前最高级别的euv光刻胶，公司的设备能否满足其清洗要求？（就针对euv光刻胶而言）公司回答表示，尊敬的投资者，您好。光刻胶当下主要是SPM工艺，该工艺可以满足当下制程的要求，但是因为环保与...

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