龙图光罩宣布90nm节点掩模版量产，推动半导体国产化进程

SISC半导体芯科技2025-07-28

来源：网络整理△扫码索阅2025年上半年，银杏谷生态企业、独立第三方半导体掩模版厂商龙图光罩的珠海项目顺利投产，公司在第三代掩模版PSM产品方面取得显著进展。其中，90nm节点掩模版已成功实现量产，65nm产品也已开始送样验证，这标志着龙图光罩在高端制程领域的影响力进一步提升，其下游覆盖领域也更加丰富。半导体掩模版作为半导体产业上游的核心材料，在整个产业中占据着极为重要的战略地位。随着半导体产业...

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传感器、先进封装等特色工艺制程。此次90nm节点掩模版的量产，是龙图光罩发展历程中的一个重要里程碑。在特色工艺制程领域，对于130nm及以上制程节点的半导体掩模版，境内厂商工艺技术水平已达到国际一线竞争对手同等水平，产品关键参数无明显差异，性能水平基本相当，正逐步占据该制程节点下境外厂商的市场份额。而130nm至28nm制程节点的成熟制程半导体掩模版产品，是包括龙图光罩在内的当前境内第三方厂商技术攻关和产品研发的主要方向，虽然目前与国际一线厂商在各个环节上尚存在一定差距，但短期内技术追赶存在较大的可能。龙图光罩董事长柯汉奇表示，随着珠海募投项目的推进，公司产品制程水平将拓展至90nm、65nm，实现制程升级和产品迭代。珠海工厂的年达产产能规划为1.8万片，预计达产产值为5.4亿元。目前，珠海工厂已完成第三代掩模版PSM产品的工艺调试和样品试制，并已送样至客户进行验证，待验证通过后即可开始小批量供货。不仅如此，龙图光罩更高制程节点的产品已在某全球领先的晶圆代工厂完成产品流片，在线收集的各项关键验证数据均满足客户要求。该节点验证通过后，公司将可覆盖该客户三分之一以上的产品需求。此外，更高等级的产品亦在进行前期的工艺匹配，预计下半年将开始流片验证，届时公司将可以覆盖该客户绝大部分需求，为公司的长远发展奠定良好的基础。掩模版供应商必须具备强大的制程工艺水平、精度控制能力以及完善的技术研发体系，才能满足半导体制造的苛刻需求。龙图光罩在OPC补偿和PSM相移掩模技术方面已达到行业领先水平。报告期内，公司对第三代半导体掩模版技术进行了全流程研发和工艺调试，新获授权专利18项（发明专利9项，实用新型专利9项）。这些成果将助力公司保持在半导体掩模版领域的技术领先地位。根据战略规划，未来三至五年，龙图光罩将围绕高端半导体芯片掩模版领域，持续加大研发和资金投入，逐步实现90nm、65nm及更高节点的高端制程掩模版量产与国产化配套，扩大营业收入规模和市场占有率。此外，公司计划建立国内专业化的半导体掩模版工程中心，联合高校及科研院所，针对高端制程掩模版制造技术展开研发，拓宽产业链上下游协作，实现部分工序的自制化。龙图光罩90nm节点掩模版的量产，不仅对自身发展具有重大意义，也将为我国半导体产业的国产化进程注入新的活力，推动我国半导体产业朝着更高水平迈进。欢迎投稿《半导体芯科技》各矩阵媒体平台长期面向读者征稿啦！不限题材和体裁，若贵司有最新的产品发布、前沿的技术进展、融资量产的利好讯息都欢迎您通过以下邮箱进行投递~viviz@actintl.com.hk行业专业媒体推荐点击阅读原文","kind":"news","is_publish_news":true,"is_publish_highlight":false,"is_publish_live":false,"is_publish_wemedia":false,"editions":null,"column":"","sentiment":"1","news_tag":"productRelease","news_rank":0,"isVideo":false,"video":null,"symbols":[],"gpt_button":1,"need_auth":false,"need_login_tip":false,"code":"91000000","status":"200"},"commentList":[],"isCommentEnd":true,"newsSizeData":{"likeSize":0,"commentSize":0,"repostSize":0,"favoriteSize":0,"likeStatus":false,"favoriteStatus":false},"APP":{"userAgent":"Mozilla/5.0 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