深圳清溢光电股份有限公司一种多参考点高精度掩膜版贴片装置专利获授权(摄影术专利快讯)

DoNews2025-07-16

天眼查App显示,2025年7月15日,“一种多参考点高精度掩膜版贴片装置”正式进入专利权的授权阶段。申请人为深圳清溢光电股份有限公司,该项摄影术专利涉及掩膜版刻划技术领域。据专利信息显示,通过设置多个调整组件及双摄像机定位系统,解决了相关技术中设备贴合精度不高的问题,实现贴片与掩膜版之间的高精度对位和贴合。发明人为张津。本发明包括机架、第一调整组件、支柱、第一推顶件、摄像机、第二调整组件、压板、...

网页链接
免责声明:本文观点仅代表作者个人观点,不构成本平台的投资建议,本平台不对文章信息准确性、完整性和及时性做出任何保证,亦不对因使用或信赖文章信息引发的任何损失承担责任。

精彩评论

我们需要你的真知灼见来填补这片空白
发表看法