有投资者向国林科技提问, 公司的设备在晶圆厂芯片光刻产线上,是与光刻机一起作为前后工序配套使用的吗?按照目前国内走的多重曝光路线,需要光刻一次,清洗一次。再光刻一次,清洗一次。需要多次光刻多次清洗。光刻设备、涂胶显影设备与清洗设备需要协同合作。公司回答表示,尊敬的投资者,您好。国林半导体公司的产品可为芯片光 刻制造环节中的清洗工艺提供对应的机能水设备,满足工序清洗需求。感谢您的关注。
网页链接有投资者向国林科技提问, 公司的设备在晶圆厂芯片光刻产线上,是与光刻机一起作为前后工序配套使用的吗?按照目前国内走的多重曝光路线,需要光刻一次,清洗一次。再光刻一次,清洗一次。需要多次光刻多次清洗。光刻设备、涂胶显影设备与清洗设备需要协同合作。公司回答表示,尊敬的投资者,您好。国林半导体公司的产品可为芯片光 刻制造环节中的清洗工艺提供对应的机能水设备,满足工序清洗需求。感谢您的关注。
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