光刻机，国产替代加速，核心公司梳理！（附名单）

金融小博士2025-06-30

光刻机技术壁垒极高，目前是我国先进制程扩产的‘卡脖子’卡的最厉害的环节。在半导体制造领域，光刻机是延续摩尔定律的核心装备。在整个集成电路制造过程中,光刻是最核心、最复杂的工艺步骤，利用光学原理在硅片上转移电路图形，决定了晶体管的最小特征尺寸及密度。全球市场由ASML主导。当前最高端的产品就是其研发的极紫外光刻机（EUV），能支持7nm甚至更先进的工艺，单价超1.5亿美元。2024年我国是ASML...

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