为什么中国研发不出7nm的EUV光刻机？有3个原因

Ofweek光电信息网2025-04-21

大家都清楚，EUV光刻机是当前最先进的光刻机技术，可以用于7nm及以下芯片的制造，采用13.5nm波长的极紫外线，售价几亿美元一台。而这样的EUV光刻机，目前也只有荷兰的ASML一家能够制造，像日本的Cana、Nikon，以及中国的上海微电子，都无法制造。所以这就导致我们制造7nm及以下工艺时候时，被光刻机卡了脖子了。那么问题就来了，为何EUV光刻机，只有ASML一家能够制造出来，而我们研发不出来...

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