英伟达宣布,台积电(TSMC)和新思科技(Synopsys)两大半导体行业巨头将使用计算光刻平台进行生产,加速制造并突破下一代先进半导体芯片的物理极限。目前新思科技已经将名为“cuLitho”的计算光刻库与其软件、制造工艺和系统集成,以加快芯片制造速度,并在未来支持最新一代Blackwell架构GPU。英伟达创始人兼首席执行官黄仁勋表示,计算光刻是芯片制造的基石,英伟达与台积电和新思科技合作,利用...
网页链接英伟达宣布,台积电(TSMC)和新思科技(Synopsys)两大半导体行业巨头将使用计算光刻平台进行生产,加速制造并突破下一代先进半导体芯片的物理极限。目前新思科技已经将名为“cuLitho”的计算光刻库与其软件、制造工艺和系统集成,以加快芯片制造速度,并在未来支持最新一代Blackwell架构GPU。英伟达创始人兼首席执行官黄仁勋表示,计算光刻是芯片制造的基石,英伟达与台积电和新思科技合作,利用...
网页链接
精彩评论