作者 | 杜芹近日,一段ASML的高数值孔径(High-NA) EUV光刻机进驻英特尔工厂的视频,引发了半导体行业的广泛关注。因为,这关乎着摩尔定律能否继续走下去。对于2nm以下的芯片制造,拥有更高数值孔径的0.55 High-NA EUV光刻机起到至关重要的作用。然而,一个不争的事实是,High-NA EUV光刻机要比上一代EUV光刻机要复杂的多,其必然带来芯片设计和制造的新挑战。作为最早购买到...
网页链接作者 | 杜芹近日,一段ASML的高数值孔径(High-NA) EUV光刻机进驻英特尔工厂的视频,引发了半导体行业的广泛关注。因为,这关乎着摩尔定律能否继续走下去。对于2nm以下的芯片制造,拥有更高数值孔径的0.55 High-NA EUV光刻机起到至关重要的作用。然而,一个不争的事实是,High-NA EUV光刻机要比上一代EUV光刻机要复杂的多,其必然带来芯片设计和制造的新挑战。作为最早购买到...
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