来源:内容由半导体芯闻(ID:MooreNEWS)编译自imec,谢谢。极紫外光刻 (EUVL) 于 2019 年进入高级逻辑代工厂的大批量生产;动态随机存取存储器 (DRAM) 公司也对采用 EUVL 越来越感兴趣,这要归功于 ASML 非凡的奉献精神和承诺,他将技术的极限推到了远远超出许多人认为可能的范围。正如大家所熟知,光刻机下一个发展方向是引入High NA (0.55NA) EUVL,以...
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