三星3nmGAA制程技术良率极低。近日,据韩媒Naver报道称,三星与美企Silicon Frontline Technology公司进行合作,希望通过对方的静电放电预防技术,帮助三星晶圆厂改进前端工艺和芯片性能,以提高公司的3nm芯片良率。据外媒报道,三星3nmGAA制程技术良率极低,仅有20%,这势必会影响三星先进工艺量产进度。与此同时,依然使用FinFET技术的台积电3nm芯片良率比较稳定,...
网页链接三星3nmGAA制程技术良率极低。近日,据韩媒Naver报道称,三星与美企Silicon Frontline Technology公司进行合作,希望通过对方的静电放电预防技术,帮助三星晶圆厂改进前端工艺和芯片性能,以提高公司的3nm芯片良率。据外媒报道,三星3nmGAA制程技术良率极低,仅有20%,这势必会影响三星先进工艺量产进度。与此同时,依然使用FinFET技术的台积电3nm芯片良率比较稳定,...
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