阿斯麦(ASML)CEO Peter Wennink 15日表示,新一代High-NA EUV光刻机有望于2024年出货,首次应用于晶圆厂,单台成本3亿-3.5亿欧元。并计划在2026年至2027年之间的某个时间点批量生产该设备,并将尽可能扩大其生产能力,预计到2027-2028年,High-NA EUV光刻系统的年产能将达到20个。Peter Wennink表示,每台设备的价格达到了目前在售的EUV光刻机的2倍。但是对于正在先进制程领域激烈竞争的头部晶圆厂来说,他们别无选择。
阿斯麦(ASML)CEO Peter Wennink 15日表示,新一代High-NA EUV光刻机有望于2024年出货,首次应用于晶圆厂,单台成本3亿-3.5亿欧元。并计划在2026年至2027年之间的某个时间点批量生产该设备,并将尽可能扩大其生产能力,预计到2027-2028年,High-NA EUV光刻系统的年产能将达到20个。Peter Wennink表示,每台设备的价格达到了目前在售的EUV光刻机的2倍。但是对于正在先进制程领域激烈竞争的头部晶圆厂来说,他们别无选择。
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