普达特科技(00650)在半导体设备领域,继清洗设备之后,又一项半导体晶圆制造流程中的重要工艺项目CVD(化学气相沉积)设备业务按计划开展,初步向该业务投放人民币1.4亿元。按计划,CVD产品的范围包括用于制造12吋芯片的多种先进热CVD设备,预期CVD产品将于2024年进入商业生产阶段。这一工艺的设备目前在国内的国产替代率很低,全球CVD设备市场的技术壁垒高,具有广阔和巨大的市场潜力。薄膜沉积...
网页链接普达特科技(00650)在半导体设备领域,继清洗设备之后,又一项半导体晶圆制造流程中的重要工艺项目CVD(化学气相沉积)设备业务按计划开展,初步向该业务投放人民币1.4亿元。按计划,CVD产品的范围包括用于制造12吋芯片的多种先进热CVD设备,预期CVD产品将于2024年进入商业生产阶段。这一工艺的设备目前在国内的国产替代率很低,全球CVD设备市场的技术壁垒高,具有广阔和巨大的市场潜力。薄膜沉积...
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