台积电将于2024年取得高NA EUV光刻机，有助于2nm工艺量产

IT之家2022-09-16

IT之家 9 月 16 日消息，台积电研究大将米玉傑博士透露，台积电将在 2024 年取得 ASML 下世代极紫外光微影设备（high-NA EUV），为客户发展相关的基础设施与架构解决方案。台积电业务开发副总裁张晓强之前曾经表示，取得设备后，初期主要用于与合作伙伴共同研究。从之前公布的信息来看，High-NA EUV 光刻设备的单价估计为 4 亿美元（约 28 亿元人民币），是现有 EUV ...

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