普达特科技（00650）披露半导体设备业务进展　新增29台正式订单

2026年10月11日，普达特科技有限公司（股票代码：00650）发布自愿性公告，通报其半导体设备业务的最新进展。公司自2026年3月24日以来共取得29台新设备正式订单，其中14台为半导体设备，包括单片清洗设备与炉管LPCVD设备。上述订单尚未确认收入，将在客户通过验收后计入业绩。 公告显示，14台半导体设备具体覆盖以下工艺： 1）OCTOPUS及OCTOPUS-SP单片清洗设备，用于12英寸晶圆背面清洗、Solvent清洗及RCA清洗工艺，其中包含4台硫酸清洗设备； 2）CUBE单片清洗设备，用于背面清洗与刻蚀工艺； 3）炉管LPCVD设备，用于12英寸Si N薄膜沉积工艺。 该批设备将应用于客户的高端特色工艺半导体及第三代半导体产线，覆盖晶圆前段和后段工艺。董事会确认，上述客户及其最终实益拥有人均为独立于公司及其关联人士的第三方。 公告称，公司自研的半导体清洗及炉管LPCVD/ALD设备平台可覆盖成熟制程及先进逻辑、存储制程，并具备对标国际领先厂商的技术性能。其中，单片清洗系列平台可满足Solvent清洗、晶圆背面清洗、RCA清洗等主流湿法清洗需求；公司还开发了190 ℃高温硫酸清洗设备并已实现出货。在炉管设备方面，公司拥有LPCVD和ALD两大产品线，适用于12英寸晶圆Si N、Poly、TEOS等关键薄膜沉积工艺，且已完成应用于14/7 nm节点高性能介质层薄膜沉积的Low-K ALD Si OCN炉管设备开发。 公司表示，将继续利用技术优势拓展市场，争取更多批量化正式订单并导入更多行业头部客户，以推动半导体设备业务增长并提升毛利率。